场发射扫描电镜

产品介绍

场发射扫描电镜Quattro SEM特点与用途：

    在自然状态下对材料进行预案为研究，具有环境真空模式（ESEM）的高分辨率场发射扫描电镜；

    缩短样品制备时间：低真空和环境真空技术可针对不导电和/或含水样品直接成像和分析，样品表面无荷电累积；
    在各种操作模式下分析导电和不导电样品，同步获取二次电子像和背散射电子像；
    优良的分析性能，样品仓可同时安装3三个EDS探测器，其中2个EDS端口分开180°、WDS和共勉EDS/EBSD;
    针对不导电样品的分析性能：凭借“压差真空系统"实现低真空模式下的EDS和EBSD分析；
    灵活、准确的优中心样品台，105°倾斜角度范围，可多方位观察样品；
    软件直观、简便易用，并配置用户向导及Undo（撤销）功能，操作步骤减少，分析更快速；
    全新创新选项，包括可伸缩RGB阴极荧光（CL）探测器、1100℃高真空热台和AutoScript。

金属及合金、断口、焊点、抛光断面、磁性及超导材料
陶瓷、复合材料、塑料
薄膜/涂层
地质样品断面、矿物
软材料：聚合物、药物、滤膜、凝胶、生物组织、植物材料
颗粒、多孔材料、纤维
水合/脱水/湿润/接触角分析
结晶/相变
氧化/催化
材料生成
拉伸（伴随加热或冷却）

发射源：高稳定型肖特基场发射电子枪

分辨率：

放大倍率：6 ~ 2,500,000×
加速电压范围：200V ~ 30kV
探针电流范围：1pA – 200nA，连续可调
X-Ray工作距离：10mm，EDS检出角35°
样品室：从左至右为340mm宽的大存储空间，样品室可拓展接口数量12个，含能谱仪接口3个（其中2个处于180°对角位置）

样品台和样品：

探测器系统：

同步检测多达四种信号，包括

样品室高真空二次电子探测器ETD
低真空二次电子探测器LVD
气体SED（GSED，用于环境扫描模式）
样品室内IR-CCD红外相机（观察样品台高度）
可用于样品导航的彩色光学相机Nav-Cam™

控制系统：
操作系统：64为GUI（Windows10）、键盘、光学鼠标
图像显示：24寸LCD显示器，WUXGA 1920×1200
定制化的图像用户界面，可同时激活多达4个视图
导航蒙太奇
软件支持Undo和Redo功能